半導體特殊氣體

品項純度包裝產品說明 
SF699.9% / 99.999%10L / 40L / 47L 六氟化硫是常用的致冷劑及輸配電設備的絕緣與防電弧氣體，在半導體製程中，是用於蝕刻的重要氣體 。
在液晶顯示器的製造上是主要的清潔氣體作為使用
NF399.99%47L (20KG) - DIS640在半導體擴散製程中，是作為清洗氣體使用的重要氣體 , 特別用於12吋晶圓廠時所需要的重要材料。
CH2F299.995%47L (30KG)-JIS22 (SUS)用作新冷卻劑系統中氯氟碳化合物（亦稱為Freon）的代替物。二氟甲烷(R32冷媒)它是零臭氧損耗潛勢，在半導體製程中，是用於蝕刻的重要氣體
CF499.999%44L - CGA580
C4F899.999%40L (40KG) - CGA580是常在半導體PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition)製程中， C4F8 是做為替代CF4或C2F6，作為清洗氣體使用 以及半導體製程蝕刻氣體 。此氣體亦為穩定無毒的食品氣霧噴射劑、介質氣體。
C4F699.990%47L (20KG) - DISS724作爲新一代環保電子氣體，電子級C4F6成爲半導體製造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值幾乎爲0，而且能完成納米級溝槽的加工
C3F899.999%47L - DISS716是常在半導體PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition)製程中， C3F8 是做為替代CF4或C2F6，作為清洗氣體使用 以及半導體製程蝕刻氣體 。此氣體亦為穩定無毒的食此氣體亦為穩定無毒的眼科醫療用氣體。